化學(xué)、生(shēng)物領域(yù):原(yuán)子(zǐ)吸收、ICP、ICP-MS,核磁共(gòng)振、旋轉蒸發儀、CCD、生物發酵罐(guàn)、化學反(fǎn)應器(合成(chéng)器(qì))等。
材(cái)料(liào)領域(yù):電鏡、X射線衍射、X熒(yíng)光(guāng)、磁控濺射、真空鍍膜機、分子(zǐ)束外延、ICP刻(kè)蝕、各(gè)種半(bàn)導體設備、疲勞試驗機、化學沉積係統(tǒng)、原子沉積係(xì)統等等。
物理(lǐ)領域:激光器(各種型號)、磁場、各種分子泵以及包括材料領域使用的各種需(xū)水冷設備。
醫(yī)療(liáo):低(dī)磁場核磁共(gòng)振、超導磁共振、直線(xiàn)加速器、CT、X光機等(děng)等。
技術優勢
- *的(de)Hot Gas Bypass技術,非啟停式製冷技術
- 控溫精(jīng)度高(PID 控溫技術)
- 性(xìng)能穩(wěn)定,質量可(kě)靠
- 節約大(dà)量的水資源
- 使用去離子水或蒸餾水,沒有水垢,不會(huì)堵塞儀器管路
設計特(tè)色
- 體積小,外形美觀(guān)
- 同等製冷功(gōng)率下噪音比進口原裝(zhuāng)水循環噪音低
- 多種規格(gé)型(xíng)號,滿足不同用戶(hù)的需求
LabTech SH150-係(xì)列中(zhōng)型(xíng)循環水冷卻恒(héng)溫器均采用*的PID數字控溫技術(shù)、*的Hot Gas Bypass技術,產品質(zhì)量(liàng)可靠,可(kě)滿足絕大多數用戶的需(xū)求。 本係(xì)列產品廣泛(fàn)應用(yòng)於AAS、ICP、ICP-MS、電鏡等分析儀器行業,旋轉蒸發儀、索氏提取、固(gù)液萃取(qǔ)儀、凱氏定氮儀等(děng)實(shí)驗室(shì)設(shè)備,激光打(dǎ)標機、激光(guāng)切(qiē)割機等激光儀(yí)器及機床行業(yè)。 |
| | | SH150-900 該產品(pǐn)主要應用於 AAS 等分析儀(yí)器領域
| SH150-1000A 該產品(pǐn)廣泛應用於激光儀器領域
| SH/2100/3000 該係列產品廣泛應(yīng)用(yòng)於 AAS , ICP , ICP-MS ,掃描、透射電鏡等分(fèn)析儀器;小型激光(guāng)切割(gē)機等激光儀(yí)器;機床(chuáng)行業 | SH-LT 該係(xì)列產品廣泛應用於低溫循環水冷卻器係(xì)列(liè),其控溫範圍-20 ℃~ 35 ℃,廣泛應用於生命科學(xué)儀器領(lǐng)域(yù)。 |
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SMART儀器性能參數(shù) 儀器規格(gé) | 控溫範圍 | 溫度穩定(dìng)度 | 製冷能(néng)力(lì) | 泵流量 | 控溫方式 | SH150-900 | 8 ℃~ 35 ℃ | ± 0.3 ℃ | 900W | 4L/Min@1.5Bar |
| SH150-1000A | 8 ℃~ 35 ℃ | ± 0.1 ℃ | 1000W | 6.4L/Min@4Bar | PID(LCD數顯) | SH150-1000 | 8 ℃~ 35 ℃ | ± 0.1 ℃ | 1000W | 6.4L/Min@4Bar | PID | SH150-1500 | 8 ℃~ 35 ℃ | ± 0.1 ℃ | 1500W | 6.4L/Min@4Bar | PID | SH150-1500M | 8 ℃~ 35 ℃ | ± 0.1 ℃ | 1500W | 12.1L/Min@4Bar | PID | SH150-2100 | 8 ℃~ 35 ℃ | ± 0.1 ℃ | 2100W | 12.1L/Min@4Bar | PID | SH150-3000 | 8 ℃~ 35 ℃ | ± 0.1 ℃ | 3000W | 12.1L/Min@4Bar | PID | SH150-1000LT | -20 ℃~ 35 ℃ | ± 0.1 ℃ | 1000W | 6.4L/Min@4Bar | PID | SH150-2100LT | -20 ℃~ 35 ℃ | ± 0.1 ℃ | 2100W | 12.1L/Min@4Bar | PID | H500 | 8 ℃~ 35 ℃ | ± 0.2 ℃ | 5000W | 17.1L/Min@4Bar | PID | H700 | 8 ℃~ 35 ℃ | ± 0.2 ℃ | 7000W | 17.1L/Min@4Bar | PID | H900 | 8 ℃~ 35 ℃ | ± 0.2 ℃ | 9000W | 17.1L/Min@4Bar | PID |
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